半導(dǎo)體側(cè)泵浦激光打標(biāo)機(jī)原理
半導(dǎo)體側(cè)泵浦激光打標(biāo)機(jī)使用國際上最先進(jìn)的激光技術(shù)，用波長808nm半導(dǎo)體激光二極管泵浦ND:YAD介質(zhì)，使介質(zhì)產(chǎn)生大量的反轉(zhuǎn)粒子，在Q開關(guān)的作用下形成波長為1064nm的巨脈沖激光束輸出，激光束通過擴(kuò)束、聚焦，最后通過電腦控制振鏡的偏轉(zhuǎn)實(shí)現(xiàn)標(biāo)刻
半導(dǎo)體側(cè)泵浦激光打標(biāo)機(jī)機(jī)型簡介
半導(dǎo)體側(cè)泵浦激光打標(biāo)機(jī)是激光打標(biāo)領(lǐng)域的一次突破性變革，此種激光器具有能耗小、電光轉(zhuǎn)換率高、激光輸出模式穩(wěn)定性好、可靠性高、體積小、打標(biāo)效果好、無耗材等顯著優(yōu)點(diǎn)。整機(jī)依照人體工程學(xué)原理采用一體化設(shè)計，外形美觀、操作方便。重要光學(xué)部件均為歐美原裝進(jìn)口，光路系統(tǒng)采用全密封結(jié)構(gòu)、具有光路預(yù)覽和焦點(diǎn)指示功能、為機(jī)器長時間連續(xù)24小時工作提供了可靠性的保障。
半導(dǎo)體側(cè)泵浦激光打標(biāo)機(jī)特點(diǎn)
穩(wěn)定性好：半導(dǎo)體泵浦激光標(biāo)記系統(tǒng)采用半導(dǎo)體技術(shù)取代傳統(tǒng)的電真空技術(shù).激勵源采用大功率半導(dǎo)體矩陣大延長了產(chǎn)品的壽命和系統(tǒng)的穩(wěn)定性。
精度高： 半導(dǎo)體泵浦激光打標(biāo)系統(tǒng)輸出光束質(zhì)量更趨近理想模式，更適合于超精細(xì)加工，最小字符尺寸可達(dá)0.2mm，使激光標(biāo)記的精度達(dá)到一個新的數(shù)量級。
速度快： 半導(dǎo)體泵浦激光打標(biāo)系統(tǒng)采用超精細(xì)的光學(xué)器件，其振鏡速度遠(yuǎn)高于傳統(tǒng)激光系統(tǒng)。
能耗低： 半導(dǎo)體激光打標(biāo)系統(tǒng)應(yīng)用高效半導(dǎo)體矩陣，使激光轉(zhuǎn)換率大為提高。
可靠性高：半導(dǎo)體激光打標(biāo)系統(tǒng)的集成性高，不需要高壓電源，高壓器件，極大的保證系統(tǒng)可靠性。
體積?。?nbsp;高度集成化得控制系統(tǒng)，有利于顧客更好的利用工廠空間。
半導(dǎo)體側(cè)泵浦激光打標(biāo)機(jī)技術(shù)參數(shù)
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型號 |
50W |
75W |
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最大激光輸出功率 |
≤60W |
≤90W |
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激光波長 |
1064nm |
1064nm |
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光束質(zhì)量 |
<6 M2 |
<6 M2 |
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激光重復(fù)頻率 |
≤30KHz |
≤30KHz |
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標(biāo)刻范圍 |
100mm×100mm (可選配150mm×150mm) |
100mm×100mm (可選配150mm×150mm) |
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標(biāo)刻深度 |
≤0.3mm |
≤0.3mm |
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標(biāo)刻速度 |
≤7000mm/S |
≤7000mm/S |
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最小線寬 |
0.015mm |
0.015mm |
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最小字符 |
0.3mm |
0.3mm |
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重復(fù)精度 |
±0.003mm |
±0.003mm |
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冷卻方式 |
水冷 |
水冷 |
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整機(jī)功耗 |
1.5KW |
2.0KW |
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供電 |
220V±22V/50Hz,電流5A以下 |
220V±22V/50Hz, 電流5A以下 |
半導(dǎo)體側(cè)泵浦激光打標(biāo)機(jī)適用材料及行業(yè)
金屬與部分非金屬，特別適合一些要求更精細(xì)、精度更高，打深度的材料廣泛應(yīng)用于電子分離元器件，集成電路（IC），電工電器，手機(jī)通訊，五金制品，工具配件，精密器械，眼鏡鐘表，首飾飾品，汽車配件，塑膠按鈕，水暖配件，衛(wèi)生潔具，PVC管材，醫(yī)療器械等
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